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Porcellana Hangzhou Freqcontrol Electronic Technology Ltd. Mappa del sito
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Wafer piezoelettrico
Wafer di vetro Borofloat 33 progettati per la massima stabilità termica, eccezionale resistenza chimica e ultra elevata chiarezza ottica.
Wafer di silice fuso resistente con resistenza meccanica e stabilità termica superiori per componenti semiconduttori di precisione
Wafer di zaffiro realizzato in corindone che fornisce un'eccellente chiarezza di durata e gestione termica per una tecnologia all'avanguardia
Trasforma la tua elettronica con la goccia di zaffiro La soluzione definitiva per i dispositivi ad alte prestazioni
Wafer LiNbO3
4 pollici LiNbO3 Wafer MgO Dope Resistenza alle alte temperature in cristallo di wafer ottico
Substrato wafer piezoelettrico LiNbO3 taglio 128Y con tacca piatta di orientamento
Monocristalli conformi senza piombo di LiNbO3 LNC con grande ME effetti
Il grado Y128 della SEGA ha tagliato LiNbO3 il pacchetto 0.5mm della cassetta del wafer DSP
Wafer LiTaO3
Litao3 piezoelettrico singolo Crystal Lithium Tantalate Wafer
Wafer al tantalato di litio drogato con Fe Wafer ottico olografico LiTaO3
Litio Tantlate LiTaO3 Wafer High Power SAW Grado Litao3 Crystal
Wafer di grado LiTaO3 SAW Wafer piezoelettrico doppio al tantalato di litio
Singolo Crystal Quartz Wafer
Anello di quarzo a cristallo singolo con bassa densità di inclusione per sensori di pressione
Wafer di quarzo a cristallo singolo ad alta precisione per applicazioni TCXO e VCXO
Wafer di quarzo a cristallo singolo da 3 e 4 pollici per il processo di produzione di dispositivi SAW e MEMS
IL distacco di BT ha tagliato singolo Crystal Quartz Wafer Double a 4 pollici/singolo polacco laterale
Wafer della silice fusa
Wafer di silice fuso ad alta purezza per prestazioni imbattibili 2'' 3' 4' 6' 8' Disegni ottici e microelettronici a livello di wafer
Borofloat 33 Substrato di vetro per l'industria dei semiconduttori e MEMS Borofloat33 Vetro per varie applicazioni
Wafer di quarzo fuso per l'industria dei semiconduttori 1000um Spessore e arco ± 40μm
Wafer di silice fuso ad alta precisione di 200 mm di diametro per LTV 2 μm
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